FA-2000用于半導體工業的臭氧氣體發生器
優勢
由于我們獨特的方法使用石英雙管放電單元，清潔和干燥的臭氧氣體無金屬產生污染物或濕氣。
高濃度臭氧氣體由專用電源產生。
用途
各種半導體清洗裝置
臭氧灰化裝置
TEOS臭氧- cvd設備
用于各種半導體的臭氧-水發生器
放電原理
FA系列石英雙管，電極間有介質，可防止金屬粉塵。
重金屬含量分析
高純度氧源規格
臭氧放電壓力:0.07~0.20MPa
臭氧濃度:~270g/m(N)
發電量可調范圍:5~100%
氧氣純度:99.95 ~ 99.9999%
